ISO 8181:2023
p
ISO 8181:2023
82998
недоступно на русском языке

Текущий статус : Опубликовано

ru
Формат Язык
std 1 42 PDF + ePub
std 2 42 Бумажный
  • CHF42
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document defines general terms and film growth processes for atomic layer deposition (ALD). ALD technique is classified into conventional time separated ALD and spatial ALD according to the separation between sequential surface reactions of precursors on substrate. Besides planar substrate, ALD can be used for coating on micro-nano particles, which is developed as powder ALD. Some energy enhanced ALD techniques are also included. This document specifies the processes of different ALD methods.

This document applies to the process of ALD. This document does not apply to the deposited materials or specific nanostructures.

This document applies to industrial production, scientific research, teaching, publishing and scientific and technological communications related to ALD.

Preview 

Вы можете ознакомиться с данным стандартом в нашей онлайн-библиотеке (OBP)

Общая информация

  •  : Опубликовано
     : 2023-10
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  •  : 1
  • ISO/TC 107
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)