ISO 21859:2019
p
ISO 21859:2019
71990
недоступно на русском языке

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.


Общая информация 

  •  :  Published
     : 2019-06
  •  : 1
  •  : ISO/TC 206 Fine ceramics
  •  :
    81.060.30 Advanced ceramics

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цель устойчивого развития:

Приобрести данный стандарт

ru
Формат Язык
std 1 38 PDF + ePub
std 2 38 Бумажный
  • CHF38

Жизненный цикл


Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

Будьте в курсе актуальных новостей ИСО

Подписывайтесь на наши новости, обзоры, а также на информацию о продуктах.