Reference number
ISO 21466:2019
© ISO 2025
International Standard
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
Edition 1
2019-12
Preview
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2019)

ISO 21466:2019

Язык
Формат
CHF 177
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2019-12
    Этап
    : Рассылка краткого отчета о пересмотре [90.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 202/SC 4
    ICS :
    37.020 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Интернет-магазин
  4. ТК
  5. ISO/TC 202/SC 4
  6. ISO 21466:2019